6.11 矩形陣列

    6-11.1 幾何定義：

  并不完全是“矩形”排列的結(jié)果，可按指定的參數(shù)，以矩形、或沿著指定路線陣列，復(fù)制選定的一個(gè)或幾個(gè)特征。還可以陣列曲面和工作特征。

    6-11.2 可控參數(shù)：

  參見圖3-95，其中有：
      

◆對(duì)象類型：

  選定要形成陣列的基礎(chǔ)，可以是一個(gè)或幾個(gè)特征（上邊的圖標(biāo)）、或者是整個(gè)零件（下邊的圖標(biāo)）。 如果有基于特征的特征，則必須在所依附的特征被選定之后，才會(huì)被選定。

◆方向1/方向2：
  選定現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的棱邊或未退化的草圖線，確定陣列的角度方向。也可以調(diào)整沿此方向的陣列反向。例如
3-071.IPT，陣列的一個(gè)方向是利用零件上倒角的棱邊，另一個(gè)是利用未退化的草圖線。
參見圖3-95右上。
  注意：方向參數(shù)應(yīng)當(dāng)理解為“陣列路徑”。就是說，陣列可以是沿著草圖線或棱邊進(jìn)行。但用來確定方向的草圖線，不可以是“構(gòu)造線”。

◆陣列尺寸類型：
  展開“間距”欄目，可見可用類型有下列幾種：。

  間距：在這個(gè)方向上，相鄰兩個(gè)陣列成員的距離值。
  距離：在這個(gè)方向上，整個(gè)陣列的距離值。這就是“在xxx長(zhǎng)度上均布xxx個(gè)”的典型設(shè)計(jì)構(gòu)思的表達(dá)。
  曲線長(zhǎng)度：沿曲線陣列時(shí)，Inventor將計(jì)算選定曲線的長(zhǎng)度，按照陣列數(shù)量，將特征均布排列在曲線上。

    6-11.3 〉〉按鈕：參見圖3-96
           

◆方向n起始位置： 重新設(shè)置兩個(gè)方向上陣列的起點(diǎn)。如果需要，陣列可以任何一個(gè)可選擇的點(diǎn)為起點(diǎn)。

◆計(jì)算：
   優(yōu)化：

  不創(chuàng)建新的特征，僅計(jì)算面。這會(huì)提高處理速度，如果當(dāng) 前的陣列量大條件又允許使用這種優(yōu)化算法，Inventor會(huì)發(fā)出圖3-97的提示。
         

  按Inventor的說法，“優(yōu)化”是最快的計(jì)算方法，確實(shí)能大幅度提升陣列的效率。但也因此有些 限制，例如無(wú)法創(chuàng)建多重引用，也不能處理與不同的原特征面會(huì)有相交的引用。

    完全相同：

  通過復(fù)制原始特征來創(chuàng)建選定特征的完全相同副本。在Inventor認(rèn)為不能使用優(yōu)化方法時(shí)，可 以用這個(gè)方法。是一種較快的計(jì)算處理模式。

   調(diào)整：
  分別計(jì)算每個(gè)陣列引用的范圍或終止方式，來創(chuàng)建復(fù)制的特征。具有大量引用的陣列，因?yàn)橛?jì)算量大，會(huì)較慢（參見3-072.IPT，圖3-98左）。通過使陣列引用可以根據(jù)特征范圍或終止條件（例如終止于模型面上的陣列特征）進(jìn)行調(diào)整。
       

◆方向： 完全相同：

   在陣列創(chuàng)建中，所有的成員與原始特征一致，不會(huì)隨著陣列路徑旋轉(zhuǎn)。
  方向1/方向2：

  指定陣列成員跟隨旋轉(zhuǎn)的二維路徑線，參見3-073.IPT，圖3-98中。也能沿三維路徑陣列，對(duì)于圓柱螺旋線為基礎(chǔ)的路徑?jīng)]問題（參見3-074.IPT，圖3-98右），對(duì)于其他三維線路徑，可能有著不可控制的扭轉(zhuǎn)。

    6.11-3 應(yīng)用提示：

◆原特征草圖修改和尺寸變化、原特征中的成員刪除之類的操作等，將使所有陣列特征中的 其他的特征引用自動(dòng)關(guān)聯(lián)改變。

◆但是在某陣列成員基礎(chǔ)上添加特征，其他成員不會(huì)跟隨，因?yàn)檫@個(gè)特征不屬于陣列的原特 征組中的成員。

◆添加原特征組中的成員，需要在陣列特征前先調(diào)整（如果可能）：在瀏覽器中，將新特征拖 放到陣列特征的上邊，之后再編輯陣列特征，在瀏覽器中點(diǎn)擊要添加的新的成員特征，直 到結(jié)果預(yù)覽中加入了這個(gè)特征。

◆撤銷原特征組中的成員，可編輯陣列特征，在瀏覽器中點(diǎn)擊要撤銷的成員特征，直到結(jié)果 預(yù)覽中去掉了這個(gè)特征。

◆以上規(guī)則也適合于環(huán)形陣列。

  可以沿二維曲線路徑，甚至是沿著封閉曲線正確完成陣列。

       6.12 環(huán)形陣列

    6.12-1 幾何定義：

  按指定的參數(shù)，以環(huán)形排列陣列，復(fù)制選定的一個(gè)或幾個(gè)特征。不能陣列曲面。

    6.12-2可控參數(shù)：參見圖3-99
    

◆特征： 與矩形陣列相同。

◆旋轉(zhuǎn)軸：

  可用的有，工作軸、特征棱邊、原始坐標(biāo)系的軸等。

◆放置尺寸： 從左到右，陣列單元數(shù)量、陣列包角、陣列方向。

◆創(chuàng)建方法： 與矩形陣列中的“計(jì)算”欄目參數(shù)和意義相同。

◆放置方法： 增量：相鄰單元之間的夾角
            范圍：全部單元的包角

    6.12-3 應(yīng)用提示：

  環(huán)形陣列的軸，也可以使用草圖線做基礎(chǔ)，參見3-075.IPT，其中的草圖“環(huán)陣軸線草圖”就是 這樣的。但是不能直接使用，需要依照草圖創(chuàng)建工作軸。

  數(shù)據(jù)傳遞過程：特征-〉工作面-〉草圖-〉投影和草圖線-〉約束-〉工作軸-〉環(huán)形陣列。

      6.13 凸雕

    6.13-1 幾何定義：

  基礎(chǔ)是草圖輪廓和現(xiàn)有特征，按要求向特征表面投影，做出雕刻樣特征。不能對(duì)曲面進(jìn)行此操作。

   6.13-2 可控參數(shù)（凸雕和凹雕）

  參見圖3-100，其中：
 

◆截面輪廓： 封閉的草圖線，應(yīng)當(dāng)在現(xiàn)有特征草圖所在面上的投影范圍之內(nèi)。也可以是文字草圖，以創(chuàng)建“刻字”的結(jié)果。

◆深度：

  凸起或凹入的尺寸，以現(xiàn)有特征相關(guān)表面作為測(cè)量基準(zhǔn)。

◆纏繞到面：
  在凸雕特征創(chuàng)建中，其側(cè)面的規(guī)則有兩種：沿草圖所在面法向投影；或者纏繞到原特征上的曲面，沿曲面的法向投影。

  參見圖3-100中圖和3-076.IPT。左邊是默認(rèn)的樣子，凸雕的側(cè)面沿著草圖的法向創(chuàng)建；右邊 是“纏繞到面”開關(guān)打開的樣子，凸雕的側(cè)面沿著指定曲面的法向創(chuàng)建。

  在使用“纏繞到面”時(shí)，截面中會(huì)出現(xiàn)新的按鈕“平板”。其實(shí)，這里沒有“平板”什么事，這是翻譯的問題，正確的應(yīng)當(dāng)是選擇“圓柱或圓錐曲面”。

◆顏色： 單獨(dú)設(shè)置結(jié)果特征表面的顏色。

◆結(jié)果類型：

  按Inventor的說法，從左到右分別是“從面凸雕”、“從面凹雕”、“從平面凸雕/凹雕”。
  以我們的理解和實(shí)驗(yàn)結(jié)果，參見圖3-100右圖和3-077.IPT；比較順暢的說明應(yīng)當(dāng)是“凸出”（圖

左）、“凹入”（圖中）、“拉伸到面”（圖右）。

  而“拉伸到面”類似于將草圖“拉伸-到”指定表面的結(jié)果，嚴(yán)格地說，與凸雕/凹雕并不是同 類的幾何構(gòu)造，因?yàn)榻Y(jié)果的“底”不是曲面，而總是平面的。關(guān)于凸雕特征在設(shè)計(jì)中的更深入地用 法，后邊將專題討論。

        6.14 貼圖

◆定義：

  將BMP等幾乎所有格式的圖像文件、或者DOC、XLS文件像標(biāo)簽一樣貼在實(shí)體表面上，使用與凸雕類似的投影規(guī)則。

◆可控參數(shù)：

  對(duì)于圖3-101左界面中的參數(shù)解釋如下：
      

  纏繞到面：

  例子參見3-078.IPT，圖3-101中。不是圓柱或者圓錐表面，將不能被選定作為纏繞面；而且只能處理“一個(gè)”圓柱或圓錐面，對(duì)于后添加的多重圓柱面會(huì)出錯(cuò)（參見3-079.IPT）。

  鏈選面：是設(shè)定可否將貼圖放在與選定面有公共邊界的相鄰面上。

◆操作步驟：

  先創(chuàng)建新草圖，用“插入圖像”工具引進(jìn)相關(guān)文件；結(jié)束草圖。再啟用“貼圖”特征工具（參見圖3-101）實(shí)施粘貼；

  參見3-080.IPT中的貼圖草圖。原始圖像中帶有“透明背景”的設(shè)置，要想使用這個(gè)設(shè)置，需 要在瀏覽器中激活草圖、選定圖像，在右鍵菜單中“特性”，在其后彈出的圖3-102的界面中，將“使 用掩碼”開關(guān)打開，這樣貼圖的底色就成為透明的了。
      

  在這個(gè)界面中還能控制圖像的旋轉(zhuǎn)和兩個(gè)方向上的鏡像。與文字草圖類似，圖像草圖的幾何約 束和尺寸約束也是利用它的邊框線實(shí)現(xiàn)的,參見3-081.IPT。

      6.15 鏡像

    6.15-1 幾何定義：

  這是創(chuàng)建特征或者整個(gè)零件的“面對(duì)稱”結(jié)構(gòu)模型，并相 互關(guān)聯(lián)�；�礎(chǔ)條件是，現(xiàn)有特征和充當(dāng)對(duì)稱面的平面（特征平 面、工作面、基礎(chǔ)坐標(biāo)面等。）。也能鏡像曲面。

    6.15-2 可控參數(shù)：參見圖3-103
       

◆特征：
  選定原始的一個(gè)或多個(gè)特征。 如果有基于特征的特征，則必須在所依附的特征被選定之后，才會(huì)被選定。選完右鍵菜單“繼續(xù)”或直接選定“鏡像平面”的按鈕選鏡像平面。

◆鏡像平面：

  選定作為面對(duì)稱模型的“對(duì)稱面”。

◆創(chuàng)建方法： 與陣列相同選項(xiàng)類似。
  優(yōu)化：“優(yōu)化”是最快的計(jì)算方法。

  完全相同：創(chuàng)建與原始特征完全相同面對(duì)稱模型，而不管它們是否與另一特征相交。
  根據(jù)模型調(diào)整：適合于希望其中的每個(gè)特征分別計(jì)算的鏡像特征。例如特征終止于模型面。

    6.16 放置特征--特征庫(kù)

  在特征工具面板上選“放置特征…”將彈出特征庫(kù)的界面，選擇庫(kù)中已有的特征。