你當(dāng)前的位置:首頁(yè)>>Inventor>>Inventor2008 機(jī)械設(shè)計(jì)應(yīng)用教程 | 零件造型和特征相關(guān)技術(shù)(19) |
15.6 齒條 要求創(chuàng)建齒形可參數(shù)化的齒條,參見(jiàn)參見(jiàn)圖3-198和3-125.IPT。 ◆創(chuàng)建基礎(chǔ)設(shè)計(jì)數(shù)據(jù) 這種要求很典型,在 Inventor中也能順利地實(shí)現(xiàn):開(kāi)始新零件。打開(kāi)“參數(shù)”功能,創(chuàng)建圖3-199所示的“用戶(hù)參數(shù)”,建立有關(guān)齒條需要控制的原始參數(shù)。 ◆創(chuàng)建齒條基礎(chǔ)模型 ◆創(chuàng)建齒溝草圖 注意:在“二維圓角”界面中的黑三角,不能使用“列表參數(shù)”功能,可能是 者忘了寫(xiě)了。但是可以用鍵入變量名的方式進(jìn)行表達(dá)式引用。 做齒條節(jié)線,用構(gòu)造線創(chuàng)建,標(biāo)好全部尺寸。將草圖與齒條基礎(chǔ)模型之間,用幾何約束實(shí)現(xiàn)正 確的關(guān)系,參見(jiàn)圖3-201。 ◆創(chuàng)建齒溝特征 拉伸-切削出齒溝。陣列齒溝特征形成全長(zhǎng)度的齒溝。陣列參數(shù)參見(jiàn)圖3-202。 按“間距”陣列;相鄰間距為齒條節(jié) 距表達(dá)式“模數(shù)*3.14159265”;陣列數(shù)量 為表達(dá)式“總長(zhǎng)/(模數(shù)*3)”。這里沒(méi)有使 用真實(shí)節(jié)距,是為了確保陣列的數(shù)量相對(duì) 于齒條長(zhǎng)度“只多不少”。 ◆驗(yàn)證 打開(kāi)設(shè)計(jì)參數(shù)表,改變“用戶(hù)參數(shù)”中的某個(gè)或某幾個(gè)原始設(shè)計(jì)參數(shù),確認(rèn)后將自動(dòng)更新模型, 所有結(jié)構(gòu)都能夠正確關(guān)聯(lián)改變。 15.7 刻度 在零件上刻度,是并不少見(jiàn)的需求,例如3-126.IPT和圖3-203。 其中,刻度線不必按實(shí)際情況造型,反正也就是個(gè)表達(dá)而已。 長(zhǎng)條的刻度,是在短刻度基礎(chǔ)上的延伸,參見(jiàn)“加長(zhǎng)刻度”特征 和草圖。文字草圖目前還不能陣列,只好一個(gè)一個(gè)地做出。參見(jiàn)圖3-204,用刻度線的槽底座草圖,用構(gòu)造線控制文字的位置和角度,拉伸成刻字。 15.8 類(lèi)螺旋結(jié)構(gòu) 例如圖3-206和3-127.IPT,這是一種并不少見(jiàn)的零件結(jié)構(gòu),它還不是Inventor概念上的螺旋掃掠所能完成的,所以這里稱(chēng)之為“類(lèi)螺旋”。對(duì)于在Inventor中建立這類(lèi)模型,會(huì)有幾種方法, 但是應(yīng)當(dāng)只有一種方法是最為接近真實(shí)的結(jié)果。我們需要分析可能的方法,找到最佳的解決方案。 ◆幾何構(gòu)成需求分析 這類(lèi)結(jié)構(gòu)的共性是:法截面呈矩形或梯形,與基礎(chǔ)圓柱之間有過(guò)渡圓角,外圓柱有公差;其路 徑是盤(pán)繞在圓柱或圓錐表面上,螺距多是變化的,變化的規(guī)則清晰。 ◆螺旋掃掠的可能性分析 用螺旋掃掠造型,因?yàn)闆](méi)有提供對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)置而不可能。因?yàn)镮nventor的螺旋掃掠僅能在極 簡(jiǎn)單的參數(shù)下自動(dòng)創(chuàng)建路徑。而這些可能的參數(shù)不足以對(duì)應(yīng)目前的建模需要。 結(jié)論是:不能完成。 ◆凸雕的可能性分析 參見(jiàn) 3-128.IPT,這是一個(gè)用凸雕機(jī)制完成的結(jié)果。從粗略的結(jié)果看還不錯(cuò),但其中有兩點(diǎn)還是有些問(wèn)題:(參見(jiàn)圖3-207) 首先,法截面輪廓不是矩形,而是兩側(cè)向心的結(jié)果,這是凸雕纏繞到圓柱面之后,其本身機(jī)制 造成的限制所致;其次,我們需要在凸雕的草圖中,既控制路徑、又控制截面,從結(jié)構(gòu)層次上看不 能各自獨(dú)立控制,也不太好。 前面介紹過(guò),凸雕的幾何構(gòu)成原理是:“基礎(chǔ)是草圖輪廓和現(xiàn)有特征,按要求向特征表面投影, 做出凸雕樣特征”。這是粗略的描述。若局限于“纏繞到圓柱面或者圓錐面”的凸雕特征,條件是: ◆原始基礎(chǔ)是具有單個(gè)的圓錐或圓柱表面的實(shí)體; ◆凸雕草圖,要在與圓錐或圓柱體相切的面上創(chuàng)建才反映實(shí)形; ◆特征參數(shù)要使“纏繞到面”有效,并選定這個(gè)圓錐面或者圓柱面; ◆將以與回轉(zhuǎn)軸線垂直的素線形成結(jié)果,特征側(cè)面向心收縮; ◆結(jié)果輪廓不能有“重疊”現(xiàn)象。 這樣,Inventor將把草圖當(dāng)成“展開(kāi)”的表達(dá),并將這個(gè)展開(kāi)表達(dá)“卷曲貼附”在指定的圓柱 或者圓錐面上,于是得到了結(jié)果特征在所指曲面上的邊界;之后按要求凸起或凹入,例如3-129.IPT。 再如3-130.IPT中紅色的凹陷,草圖是20x20mm的正方形,形成凸雕特征之后,軸向尺寸仍舊 是20mm;而圓周向尺寸,在圓柱面上的弧長(zhǎng)也是20mm。這就是“卷曲貼附”的結(jié)果。至于凹陷底部, 則是“向心收縮”的結(jié)果,每條側(cè)面棱線都指向圓柱軸線。 可見(jiàn),用凸雕還是不很合適。 ◆掃掠的可能性分析 參見(jiàn) 3-131.IPT,這是用掃掠完成的結(jié)果。我們終于可以將路徑創(chuàng)建與截面創(chuàng)建各自獨(dú)立進(jìn)行了,而且法截面圖形也是正確的了。 其中幾個(gè)技術(shù)要點(diǎn)是: ◆繪制展開(kāi)狀態(tài)下路徑的草圖,然后利用三維草圖的創(chuàng)建功能投影并纏繞在圓柱表面。這是 我們前邊曾經(jīng)用過(guò)的方法,不需要重新說(shuō)明了。 ◆截面草圖要基于路徑的法面創(chuàng)建,并注意與法截面中的圓柱中心的關(guān)系。 ◆關(guān)鍵的一點(diǎn),是要在掃掠時(shí)使用內(nèi)圓柱面作為引導(dǎo)面,這將完全做到掃掠得結(jié)果構(gòu)成符合 我們的原始構(gòu)思,參見(jiàn)圖3-208。 ◆外圓柱面需要最后來(lái)切割成形。 15.9 另一個(gè)例子:圓柱上的導(dǎo)槽 這是在直徑40mm,長(zhǎng)50mm的圓柱上的導(dǎo)槽設(shè)計(jì)。機(jī)構(gòu)是一個(gè)圓柱銷(xiāo)在8mm導(dǎo)槽中定位,拉動(dòng) 圓柱軸向移動(dòng)20mm,完成快速接近;之后轉(zhuǎn)過(guò)45°完成預(yù)夾緊;最后在轉(zhuǎn)角60°范圍內(nèi)最后夾緊。 夾緊角8°,各段交界處用R15過(guò)渡。參見(jiàn)圖3-209。 這種設(shè)計(jì)很常見(jiàn),一般來(lái)說(shuō)不會(huì)依靠模型完成制造,而是由另外的途徑提取路徑數(shù)據(jù)投入制造。 所以將路徑能單獨(dú)創(chuàng)建,則很有利于后期的處理。 這種構(gòu)思的表達(dá),同樣適合于使用前一個(gè)題目的模式,過(guò)程如下: 以XY面和原點(diǎn)為基礎(chǔ)創(chuàng)建草圖,創(chuàng)建圓柱;在XY面上做草圖,投影端面,作為槽子路徑的展 開(kāi);其中:變量“L_1d”是用戶(hù)參數(shù),這是在1°轉(zhuǎn)角下圓柱展開(kāi)長(zhǎng)度的值。 之后作出過(guò)渡圓角,完成路徑草圖;在圓柱端面作草圖,完成槽子輪廓;掃掠-切削,引導(dǎo)面為 外圓柱面;切削出槽子尾部的半圓柱,完成。 結(jié)果參見(jiàn) 3-132.IPT?梢(jiàn),這是很簡(jiǎn)潔的、直觀的過(guò)程,與設(shè)計(jì)構(gòu)思充分一致。結(jié)果也能順 利實(shí)現(xiàn)參數(shù)修改和模型跟隨。許多小型的這類(lèi)凸輪設(shè)計(jì),從簡(jiǎn)化工藝和凸輪槽內(nèi)外圈運(yùn)行速度差不 大的角度考慮,都是在槽子法截面中將兩側(cè)做成平行。 |
版權(quán)所有 民眾工作室.制作 |