你當(dāng)前的位置:首頁>>工藝與材料>>材料科學(xué)基礎(chǔ)
第2章 幾何結(jié)晶學(xué)基礎(chǔ)

              第2節(jié) 晶體的宏觀對稱(3)

    (4)旋轉(zhuǎn)反伸軸(倒轉(zhuǎn)軸)Lin
    旋轉(zhuǎn)反伸軸是過晶體中心的一假想直線,晶體繞此直線旋轉(zhuǎn)一定角度,再對晶體中心進(jìn)行反伸操作,可使相等部分重復(fù)出現(xiàn),以Lin表示。
    倒轉(zhuǎn)軸的對稱操作是旋轉(zhuǎn)加反伸,其軸次同樣遵守晶體對稱規(guī)律,即也只有Li1、Li2、Li3、Li4、Li6五種。倒轉(zhuǎn)軸的圖解說明示于圖2-14。

    Li1的對稱操作為旋轉(zhuǎn)360°后反伸,其與單一的反伸等效,即Li1 = C(圖2-14a)。
    Li2的對稱操作為旋轉(zhuǎn)180°后反伸,如圖2-14b。初始點(diǎn)1繞Li2旋轉(zhuǎn)180°后,經(jīng)過C的反伸與點(diǎn)2重合,點(diǎn)2再旋轉(zhuǎn)180°后反伸于點(diǎn)1復(fù)原。由b圖可看出,點(diǎn)1和點(diǎn)2可以通過垂直Li2的對稱面反映得到,即二次倒轉(zhuǎn)軸等效于垂直它的對稱面,即Li2 = P。
    Li3的對稱操作為旋轉(zhuǎn)120°后反伸,如圖2-14c。點(diǎn)1經(jīng)過Li3的操作可依次得到2、3、4、5、6并還原至點(diǎn)1。如果用L3和C代替Li3進(jìn)行對稱操作,點(diǎn)1通過L3操作可得到點(diǎn)1、3、5,再經(jīng)過C操作又得到點(diǎn)2、4、6,這與由Li3的操作等效,所以三次倒轉(zhuǎn)軸可表示為Li3 = L3+C。
    Li4的對稱操作為旋轉(zhuǎn)90°后反伸,如圖2-14d。點(diǎn)1經(jīng)過Li4的操作可依次得到2、3、4并還原至點(diǎn)1。Li4不能用其它對稱要素或它們的組合來間接表達(dá),是一個(gè)獨(dú)立的對稱要素。
    Li6的對稱操作為旋轉(zhuǎn)60°后反伸,如圖2-14e。從點(diǎn)1開始,按旋轉(zhuǎn)60°后反伸操作得點(diǎn)2、3、4、5、6,并由點(diǎn)6返回到點(diǎn)1復(fù)原。若用L3和P代替Li6進(jìn)行對稱操作,由點(diǎn)1開始,經(jīng)L3操作可得到點(diǎn)1、3、5,再經(jīng)過垂直L3的P操作又可得到點(diǎn)2、4、6,其結(jié)果與由Li6操作的完全相同,因而六次倒轉(zhuǎn)軸可以表示為Li6 = L3 + P (P⊥L3)。
    旋轉(zhuǎn)反伸軸一般常用的為Li4和Li6,Li4是一個(gè)獨(dú)立的對稱要素,而Li6雖有Li6 = L3 + P的等效組合表達(dá),但由于提高了軸次,習(xí)慣上應(yīng)用Li6

(5)旋轉(zhuǎn)反映軸(映轉(zhuǎn)軸)Lsn
    旋轉(zhuǎn)反映軸是過晶體中心的一假想直線,晶體繞此直線旋轉(zhuǎn)一定角度后,再對過晶體中心且垂直此直線的平面反映,可使晶體相等部分重復(fù),以Lsn表示。
    映轉(zhuǎn)軸的對稱操作為旋轉(zhuǎn)加反映。也只有Ls1、Ls2、Ls3、Ls4、Ls6五種(見圖2-15)。旋轉(zhuǎn)反映軸沒有獨(dú)立表達(dá)的對稱要素產(chǎn)生,其五種對稱要素均可用其它要素間接表示:
Ls1 = P = Li2,? Ls2 = C = Li1,? Ls3 = L3 + P = Li6,? Ls4 = Li4,? Ls6 = L3+C = Li3

 

第 [1] [2]  3  [4] [5] [6] [7] [8] 頁
版權(quán)所有    民眾工作室.制作